Lithografiesystem für die Halbleiterindustrie JetStep® G35

Lithografiesystem für die Halbleiterindustrie
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Eigenschaften

Typ
für die Halbleiterindustrie

Beschreibung

Das JetStep® G35 System ist auf Flexibilität ausgelegt und nutzt eine Familie von Hochleistungsprojektionsobjektiven, um hochauflösende Bilder für Hersteller von Flachbildschirmen zu ermöglichen. Produktübersicht Das Jetstep G35 System ist ein Bebilderungssystem für die Großserienfertigung von Displays bis zur Generation 3.5. Das JetStep G35 System ermöglicht eine hochauflösende Bildgebung mit einer Auflösung von bis zu 1,5 µm in Kombination mit der Registrierungs- und Stitching-Genauigkeit, die für die fortschrittlichste Herstellung von hochauflösenden Displays erforderlich ist. Anwendungen - LCD - TFT - AMOLED - Mikro-LED Spezifikationen - Hochgenaues Projektionsobjektiv und Beleuchtungssystem für eine Auflösung von bis zu 1,5µm - Industriestandard 6-Zoll-Fadenkreuzformat für kosteneffiziente Fertigung - Automatisierte Vergrößerungskontrolle mit vergrößertem Prozessfenster - Integriertes Reticle-Management-System für maximale Auslastung - Integriertes Metrologiepaket für Insitu-Kalibrierung - On-the-fly-Autofokus an jeder Belichtungsstelle zur automatischen Anpassung des Fokus über die Paneltopologie - On-Board-Diagnose, die Rückmeldungen zur Systemleistung und Fehlerbehebung liefert

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.