Metrologie für Halbleiter Iris™ series

Die Werkzeuge der Iris-Serie, zu der die Modelle Iris C1, T1 und R1 gehören, ermöglichen die Prozesskontrolle in einem breiten Spektrum von Anwendungen in der Großserienfertigung mit hervorragender Leistung und niedrigen Betriebskosten. Produktübersicht Die Iris-Serie ist darauf ausgerichtet, unseren Kunden die besten Betriebskosten mit einer speziellen anwendungsspezifischen optischen Konfiguration für HVM-Anwendungen in der Halbleiterfertigung zu bieten. Das Iris C1-System kombiniert eine proprietäre spektroskopische Ellipsometrie-Lösung aus der Atlas®-Familie mit der branchenführenden AI-Diffract™ OCD-Analysesoftware von Onto Innovation und ermöglicht so eine hochpräzise Kontrolle jedes kritischen Halbleiter-Prozessschritts. Das System umfasst einen zweiarmigen Roboter, einen hochpräzisen Tisch und ein Hochgeschwindigkeits-Fokussystem. Das System zeichnet sich außerdem durch eine fortschrittliche Mustererkennung, verbesserte Dickenreproduzierbarkeit und einen höheren Durchsatz aus. Die N2000™ Softwareschnittstelle und die fortschrittliche Automatisierung entsprechen den von SEMI und anderen Organisationen verabschiedeten Standards. Das Iris-System und die AI-Diffract-Lösung bieten Einblick in komplexe Strukturprofile in den Bereichen Ätzen, Reinigen, Abscheidung, CMP und dünne Schichten. Das Iris T1 ist ein spektroskopisches Ellipsometersystem, das genaue, wiederholbare Inline-Messungen der Dicke und der optischen Konstante von ein- und mehrschichtigen dielektrischen Filmen für fabrikweite Anwendungen ermöglicht. Das Iris T1-System basiert auf der bewährten Atlas-Plattform und nutzt die neuesten Fortschritte in der Optik und den Algorithmen, was es in Bezug auf Leistung und Betriebskosten zum Klassenbesten macht. Die SEMI/CE-konforme N2000™ Softwareschnittstelle ermöglicht die gemeinsame Nutzung von Rezepten zwischen den Geräten der Iris-Serie.