Metrologie für Halbleiter Aspect®

Das neue Aspect-Metrologiesystem ist eine revolutionäre optische Plattform, die für die aktuellen und zukünftigen Herausforderungen fortschrittlicher 3D-NAND-Bauteile konzipiert ist. Produktübersicht Die Speicherdichte steigt sowohl durch die Skalierung von Schichtenpaaren als auch durch das Stapeln von Speicherstapeln mit weit über 200 Paaren. Das Aspect-Metrologiesystem wurde mit Blick auf diese zukünftigen Architekturen und Skalierungsstrategien entwickelt. Das revolutionäre optische Infrarotsystem von Aspect bietet umfassende Profilierungsmöglichkeiten, die eine kritische Ätz- und Abscheidungskontrolle ermöglichen, und zwar mit der Geschwindigkeit und Prozessabdeckung, die die Kunden benötigen, und übertrifft damit die Leistung von Röntgensystemen bei mehreren Kundenbauteilen. Das Aspect-System wird von einer leistungsstarken Software-Analyse-Engine, der AI-Diffract™-Technologie, angetrieben, die eine bis zu 90 % schnellere Lösungsfindung ermöglicht und die branchenführende NanoDiffract®-Software durch die Nutzung umfangreicher maschineller Lernfähigkeiten zusammen mit High-Fidelity-Modellierung erweitert. Das Ergebnis ist eine gleichzeitige Verbesserung der messtechnischen Leistung und eine deutliche Verkürzung der Zeit bis zur Lösung. Anwendungen - Ätzen, Reinigen und Ablagern für Gen7 3D NAND und darüber hinaus - Ätzen und Implantieren für CIS - Ätzen und Implantieren für DRAM - On-Device-Materialcharakterisierung für fortschrittliche Logik