Metrologie für Wafer IMPULSE+

Integrierte Messplattform mit branchenführender Optik und maschinellen Lernlösungen, die hohe Empfindlichkeit mit hohem Durchsatz für CMP-, Beschichtungs-, Ätz- und Litho-Anwendungen kombiniert. Als integrierter Messtechnik-Standard bietet das IMPULSE+-System maximale Empfindlichkeit und Genauigkeit bei CMP-Prozessausschlägen und ermöglicht Geräteherstellern die Einrichtung von APC-Kontrolllösungen mit hochpräzisem Feedback. Mit der OCD-Lösungssoftware, die direkte Messungen innerhalb des Bauteils und der aktiven Bereiche ermöglicht, können Anwender kleinere Prozessausschläge überwachen und ihre Prozesse für höhere Erträge optimieren. Das IMPULSE+-System arbeitet mit den Software-Analyselösungen Atlas und OCD zusammen und ermöglicht so eine modulübergreifende Prozessoptimierung und eine umfassende fabrikweite Prozesssteuerung. Das IMPULSE+-System wird in den wichtigsten Schritten der DRAM-, 3D-NAND-, CMOS-Bildsensor- und Foundry/Logik-Bauelementeherstellung eingesetzt.