Das QS1200 FTIR-Messgerät ist ein Tischsystem für die Dotierstoffüberwachung, Epi-Dickenmessung und andere Anwendungen
Produktübersicht
Das QS1200 System wurde speziell für fortschrittliche Halbleiter-Fabriken entwickelt, die Materialcharakterisierung in Bereichen der Silizium-Züchtung und der Bauelementefertigung durchführen. Es bietet eine neue Ebene der Integration der FTIR-Technik unter Verwendung bewährter optischer Technologie und einer manuellen Waferschale zur Aufnahme von SEMI-Standardwafern mit 100, 125, 150, 200 und 300 mm Durchmesser. Auch ungerade Waferstücke und 2mm dicke Siliziumscheiben können auf dem QS1200-System verwendet werden.
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