Metrologie für Wafer IMPULSE V

für Halbleiter

Integrierte Messplattform mit branchenführender Optik und maschinellen Lernlösungen, die hohe Empfindlichkeit mit hohem Durchsatz für CMP-, Beschichtungs-, Ätz- und Litho-Anwendungen kombiniert. Produktübersicht IMPULSE V-System Mit engeren Wafer-zu-Wafer- und Wafer-internen Einheitlichkeitstoleranzen werden integrierte Messsysteme in verschiedenen Halbleiterverarbeitungsschritten eingesetzt. Das IMPULSE V-System basiert auf der bewährten hochauflösenden optischen Technologie und bietet eine höhere Empfindlichkeit bei der Messung von Dünnschichtrückständen während des CMP-Prozesses. Die IMPULSE-Plattform verfügt über die branchenweit zuverlässigste Hardware mit klassenbesten Zuverlässigkeits- und Produktivitätskennzahlen. Das IMPULSE V-System der nächsten Generation erweitert diese Zuverlässigkeit bei deutlich höherem Durchsatz und entspricht damit dem Bedarf an höheren Abtastraten, In-Die/On-Device- und Wafer Edge-Messungen. Die fortschrittliche Optik und die speziell entwickelte Messkammer bieten eine deutliche Verbesserung des Signal-Rausch-Verhältnisses (SNR), wodurch eine >2fache Verbesserung der Präzision gegenüber der vorherigen Generation der integrierten Messtechnik erreicht wird. Das integrierte maschinelle Lernen nutzt das zusätzliche SNR, um dieses leistungsstarke Paket zu vervollständigen. Es ermöglicht eine schnellere Zeit bis zur Lösung und schließt die Lücke bei Schichten, die zuvor mit den vorhandenen Werkzeugen nicht messbar waren. Das IMPULSE V System und das Atlas V System bilden eine umfassende Lösung für die Messung von Dünnschichten und optischen kritischen Dimensionen in Halbleiterfabriken und ermöglichen eine höhere Ausbeute durch die Weiterleitung von Informationen und einen nahtlosen Austausch von Rezepten und Daten.