Metrologie für Wafer The Atlas XP+

Die Atlas-Dünnschicht- und OCD-Serie ist das Messgerät für die Herstellung von FinFET-, Gate-All-Around (GAA)-FET-, 3D-NAND- und fortschrittlichen DRAM-Bauelementen der Spitzenklasse. Das Atlas XP+ System bietet eine einzige Plattform sowohl für Dünnschicht- als auch für OCD-Messungen für die 200-mm-Wafer-Metrologie. Das System umfasst einen Zweiarmroboter, einen Hochpräzisionstisch und ein Hochgeschwindigkeitsfokussystem. Das System verfügt außerdem über eine fortschrittliche Mustererkennung, eine verbesserte Reproduzierbarkeit der Dicke und einen überragenden SR- und SE-Durchsatz. Die N2000™ Software-Schnittstelle und die fortschrittliche Automatisierung entsprechen den von SEMI und anderen Organisationen verabschiedeten Standards. Die NanoNet®-Funktion, eine Netzwerkkomponente der N2000-Analyseplattform-Software, ermöglicht die Abstimmung zwischen den Systemen und die nahtlose Übertragung von Rezepten.