Lithografiesystem für die Halbleiterindustrie JetStep® G45

Das JetStep G45 System erfüllt die anspruchsvollen Anforderungen der mobilen Displayindustrie. Das System basiert auf bewährter Steppertechnologie und kombiniert optimierte Leistungsmerkmale mit überragenden Betriebskosten. Produktübersicht Das JetStep G45 System verfügt über 200mm. Eine verzerrungsarme Optik in Kombination mit Hochgeschwindigkeits-Präzisionsbewegungen ermöglicht es dem System, eine Überlagerung von <0,5μm zu erreichen. Die Vergrößerungsoptik des JetStep G45-Systems ermöglicht die Verwendung eines 6-Zoll-Fadenkreuzes (Maske), wodurch die Werkzeugkosten im Vergleich zu konkurrierenden Technologien erheblich reduziert werden. Darüber hinaus zeichnet sich das System durch einen geringen Platzbedarf aus, wodurch die Kosten für die Einrichtung minimiert werden, und seine reibungslosen Bewegungen verringern den Verschleiß, was wiederum die Wartungskosten senkt. Die kombinierten Einsparungen führen zu einem erschwinglichen Herstellungsprozess mit reduzierten Investitionskosten und niedrigen Betriebskosten. Spezifikationen - Hochwertiges Projektionsobjektiv und Beleuchtungssystem für eine Auflösung von bis zu 1,5µm - Industriestandard 6-Zoll-Fadenkreuzformat für kosteneffiziente Fertigung - Automatisierte Vergrößerungskontrolle mit vergrößertem Prozessfenster - Integriertes Reticle-Management-System für maximale Auslastung - Integriertes Metrologiepaket für die Insitu-Kalibrierung - On-the-fly-Autofokus an jeder Belichtungsstelle zur automatischen Anpassung des Fokus über die Paneltopologie - On-Board-Diagnose, die Rückmeldungen zur Systemleistung und Fehlerbehebung liefert