Kontaktwinkelmessgerät SURFTENS HL

Prozessfür die Halbleiterindustrie

Das Kontaktwinkelmessgerät Surftens HL wurde speziell für den Einsatz in der Halbleitertechnologie zur Messung des Benetzungsverhaltens von Siliziumwafern entwickelt. Es zeichnet sich durch folgende Merkmale aus: Reinraumtauglichkeit schnelle und einfache Messung des Kontaktwinkels Dank BV-Software besonders kompakter Aufbau durch spezielle Tischkonstruktion schnellen Messung der Kontaktwinkelverteilung auf der gesamten Waferoberfläche ohne Berührung des Wafers intuitiv zu bedienende und bewährte Software zur Kontaktwinkelmessung und Messwertspeicherung komfortable Dokumentation der Messergebnisse in Protokollen und Bildern bei Bedarf Berechnung der freien Oberflächenenergie nach OWRK wahlweise Ausstattung mitn manuellem oder vollautomatischem Dosiersystem, Mehrfachdosiersysteme möglich Surftens HL – Einsatzgebiete Die Einstellung des Benetzungsverhaltens von Siliziumwafern ist ein Standard-Prozesschritt in der Halbleitertechnologie. Die objektive Messung der freien Oberflächenenergie (SFE) nach solchen Prozessschritten ist unbedingt nötig, um die Einhaltung der vorgegebenen technologischen Parameter zu garantieren. Die Surftens HL-Modellreihe ist speziell auf die Ansprüche in der Halbleitertechnologie und im Reinraum zugeschnitten.