Der OAI Model 200 Mask Aligner ist ein kosteneffektiver Hochleistungs-Mask Aligner, der mit industrieerprobten Komponenten entwickelt wurde, die OAI zu einem führenden Unternehmen in der Photolithographie-Industrie gemacht haben. Das Modell 200 ist ein Tischgerät, das nur wenig Platz im Reinraum benötigt. Es bietet eine wirtschaftliche Alternative für F&E oder eine Pilotproduktion in begrenztem Umfang. Durch den Einsatz eines innovativen Luftlager-/Vakuum-Chuck-Nivelliersystems wird das Substrat schnell und schonend nivelliert, um eine parallele Ausrichtung der Fotomaske und einen gleichmäßigen Kontakt über den Wafer während der Kontaktbelichtung zu gewährleisten. Das System ermöglicht eine Auflösung und Ausrichtungspräzision von einem Mikrometer.
Das Ausrichtmodul verfügt über Maskeneinsatzsätze und schnell austauschbare Wafer Chucks, die die Verwendung einer Vielzahl von Substraten und Masken ermöglichen, ohne dass spezielle Werkzeuge für die Neukonfiguration erforderlich sind. Das Ausrichtmodul verfügt über Mikrometer für die X-, Y- und Z-Achse.
Der Mask Aligner Modell 200 ist mit einer zuverlässigen OAI-UV-Lichtquelle ausgestattet, die kollimiertes UV-Licht im nahen oder tiefen UV mit Lampen von 200 bis 2000 Watt Leistung liefert. Optische Rückkopplungsschleifen mit zwei Sensoren sind mit dem Regler für konstante Intensität verbunden, um die Belichtungsintensität innerhalb von ±2 % der gewünschten Intensität zu steuern. Änderungen der UV-Wellenlänge können schnell und einfach vorgenommen werden. Dieser Maskenausrichter ist eine flexible, wirtschaftliche Lösung für alle Einstiegsanwendungen im Bereich Maskenausrichtung und UV-Belichtung.
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