Laser-Photolithografiesystem PhableR 100

Das System PhableR 100 basiert auf der von der Eulitha AG entwickelten Photolithographie-Technologie PHABLE (kurz für Photonics Enabler), die es ermöglicht, hochauflösende periodische Strukturen in einem berührungslosen, nahen Photolithographie-System zu drucken. Die mit dem PhableR 100 erzielte Auflösung entspricht im Wesentlichen der eines DUV-Projektionslithographiesystems, jedoch ohne die komplexe und teure Optik und Mechanik. So können mit dem neuen System beispielsweise lineare Gitter mit einem Halbabstand von 150 nm mit hoher Gleichmäßigkeit gedruckt werden. Ein zusätzlicher Vorteil ist die praktisch unbegrenzte Tiefenschärfe des vom PhableR 100-System erzeugten Bildes, so dass die hochauflösenden Muster auch auf nicht flache Substrate, wie sie in der Photonik häufig vorkommen, mit hoher Gleichmäßigkeit gedruckt werden können. Das PhableR 100-System kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 100 mm unter Verwendung von Chrom-auf-Glas- oder Phasenverschiebungsmasken nach Industriestandard belichten. Die Maske und das Substrat werden manuell in das System geladen und der Belichtungsprozess wird von einem integrierten Computer gesteuert. Es können Standard-i-Linien-Fotoresists, sowohl Positiv- als auch Negativtöne, verwendet werden, die von gängigen Anbietern erhältlich sind. Es können lineare oder gekrümmte Gitter, 2D-Muster aus photonischen Kristallen mit hexagonaler oder quadratischer Symmetrie mit Perioden von weniger als 300 nm gedruckt werden. Das System kann auch wie ein standardmäßiger Mask-Aligner entweder im Näherungs- oder im Kontaktmodus zum Drucken von Strukturen im Mikromaßstab verwendet werden.