Laserlithografiesystem Quantum X

Nanoscribe Quantum X ist das weltweit erste System mit Zwei-Photonen-Graustufenlithografie für eine maskenlose Mikrofabrikation von refraktiven und diffraktiven Mikrooptiken. Erleben Sie Quantum X Das komplett neue Lithografiesystem Nanoscribe Quantum X wurde für die maskenlose Mikrofabrikation von Prototypen und Mastern für industrielle Fertigungsprozesse konzipiert. Quantum X definiert die Herstellung von Freiform-Mikrooptiken, Mikrolinsen Arrays und mehrstufigen, diffraktiven optischen Elementen neu. Das weltweit erste System mit Zwei-Photonen-Graustufenlithografie (2GL®) kombiniert die außerordentliche Leistungsfähigkeit der Graustufenlithografie mit der Präzision und Flexibilität von Nanoscribes bahnbrechender Technologie der Zwei-Photonen-Polymerisation. Quantum X liefert hohe Druckgeschwindigkeiten bei hoher Designfreiheit. Außerdem bietet er die notwendige Präzision zur additiven Herstellung formgenauer Strukturen mit besonders geringer Oberflächenrauigkeit. Mit Quantum X beschleunigen sich additive Fertigungsprozesse, was die Design-Iterationszyklen zusätzlich verkürzt. So wird Ihre Mikrofabrikation kosteneffizient. Zwei-Photonen-Graustufenlithografie Diese innovative Technologie kombiniert die additive Mikrofertigung mit der Echtzeitsteuerung der Voxelgrößen: Mit der Zwei-Photonen-Graustufenlithografie (2GL) wird der Weg frei für eine ultraschnelle, hochpräzise Freiform-Mikrofabrikation – ohne Kompromisse bei Geschwindigkeit oder Genauigkeit. Mit einer synchronen Modulation der Laserleistung kann Quantum X die Voxelgrößen entlang der Scanebene selbst bei höchster Druckgeschwindigkeit kontrollieren.