Scannen der gesamten Waferoberfläche auf Dicke, Dickenvariation, Krümmung, Verformung, Sori, Lage und globale Ebenheit
Misst Dicke, TTV, Krümmung, Verwerfung, Lage und globale Ebenheit.
Merkmale
Exklusive MTI-Kapazitätssensoren für hervorragende Genauigkeit und Wiederholbarkeit
Voller Dickenmessbereich von 1000 µm ohne Neukalibrierung
Misst Dicke, TTV, Wölbung, Verwerfung, Lage und globale Ebenheit
Windows®-Benutzeroberfläche
Messungen nach ASTM-Standard
SEMI S2-0200 konformes Design für Gesundheit und Sicherheit
SEMI S8-0999-konformes ergonomisches Design
Misst alle Materialien einschließlich Si, GaAs, Ge, InP, SiC ***
*** vorausgesetzt der Volumenwiderstand ist kleiner als 20K Ohm/cm
Über das halbautomatische Metrologiesystem
Das Proforma 300iSA ist ein halbautomatisches Benchtop-/Desktop-Wafer-Messsystem für halbleitende und halbisolierende Materialien. Basierend auf der exklusiven Push-Pull-Kapazitäts-Technologie von MTII ermöglicht das Proforma 300iSA das Scannen der gesamten Waferoberfläche auf Dicke, Dickenabweichung, Wölbung, Verformung, Sori, Lage und globale Ebenheit. Benutzerdefinierte und ASTM/SEMI-konforme Scanmuster werden verwendet, um vollständige 3-dimensionale (3D) Waferbilder zu erzeugen.
Benutzerdefinierte Datenberichte sind verfügbar, um die tabellarischen Daten jedes gemessenen Wafers anzuzeigen und schnell und einfach in Ihr Tabellenkalkulationsprogramm zu exportieren.
Waferspezifikationen Durchmesser: 150 mm, 200 mm, 300 mm
Material: Alle halbleitenden und halbisolierenden Wafer, einschließlich Si, GaAs, Ge, SiC, InP
Oberflächen: As-Cut, geläppt, geätzt, poliert, strukturiert
Flach/Kerbe: Alle SEMI-Standardflach(en) oder -kerbe(n)
Leitfähigkeit: Typ P oder N
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