Ultrabreitband-Hochreflektoren sind ideal für Anwendungen wie Photonenzählung, hyperspektrale Bildgebung oder Raman-Spektroskopie.
-RS, RP >99% @ 350-700 nm, 610-1130 nm, oder 350-1100 nm
-Ebenheit des Substrats und Oberflächenqualität λ/10, 20-10
-Erhältlich mit einem Durchmesser von 25,4 mm
-Hochleistungsfähige dielektrische Beschichtung
-Konzipiert für einen Einfallswinkel von 0-50 Grad
Merkmale
UV-Substrate aus Quarzglas
Fused Silica ist synthetisches amorphes Siliziumdioxid von extrem hoher Reinheit. Dieses nichtkristalline, farblose Quarzglas verbindet einen geringen Gehalt an Einschlüssen mit einer hohen Brechungsindexhomogenität, einem sehr niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und einer hervorragenden Durchlässigkeit im Wellenlängenbereich vom UV bis zum NIR. Infolgedessen können diese Spiegel besser mit Temperaturschwankungen umgehen und eignen sich aufgrund ihrer hohen Zerstörungsschwelle ideal für Hochenergielaseranwendungen. Weitere Informationen finden Sie in unserem technischen Hinweis zu optischen Materialien.
Großer Wellenlängenbereich mit hoher absoluter Reflektivität
Mit der überlegenen Beschichtungstechnologie des Ionenstrahlsputterns kann ein sehr hohes absolutes Reflexionsvermögen über einen großen Wellenlängenbereich erreicht werden. Dies ist in Situationen mit wenig Licht von Vorteil, wenn es darauf ankommt, so viel Licht wie möglich zu sammeln. Je nach Beschichtungstyp erreichen Sie bei 350-1100 nm bei einem Einfallswinkel von 0-50° einen Wert von RS, RP >99%.
UV-VIS-Breitband-Dielektrikum-Beschichtung
BB.1 beschichtete Spiegel decken den UV- bis sichtbaren Wellenlängenbereich von 350 bis 700 nm ab
VIS-NIR-Breitband-Dielektrikum-Beschichtung
BB.2 beschichtete Spiegel decken den sichtbaren bis nahen IR-Wellenlängenbereich von 610 bis 1130 nm ab
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