Die Tiefenfilter der CMPro-D-Serie von Membrane Solutions wurden entwickelt, um agglomerierte Partikel und Gele in allen Arten von chemisch-mechanischen Polierflüssigkeiten (CMP) effektiv zu entfernen, wobei die gültigen Schleifmittel und die Partikelverteilung unverändert bleiben. Eine einzigartige 3D-Verbundstruktur wurde verwendet, um ein Polypropylenmedium mit abgestufter Tiefe und konischen Poren herzustellen. Der äußere Abschnitt (stromaufwärts) besteht aus kontinuierlichen schmelzgeblasenen Medien, die die Schmutzaufnahmekapazität maximieren, zu einer langen Lebensdauer beitragen und die Kosten effektiv senken. Der innere Abschnitt (stromabwärts) besteht aus mit Nanofasern umwickelten Medien, die eine hervorragende Abscheideleistung und zuverlässige Filtration bieten.
Merkmale
Das Design mit großem Gradienten kann die Filtrationseffizienz gewährleisten und die Lebensdauer des Filters maximieren.
Die ultrafeinen Fasern der inneren Schicht halten defektverursachende Partikel hervorragend zurück und lassen gleichzeitig die gewünschten Schleifmittel passieren.
Eine längere Standzeit kann die Kosten effektiv senken.
Die Konstruktion aus Polypropylen verwendet keine Tenside oder Bindemittel, um ein niedriges Ausscheidungsniveau zu gewährleisten.
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