Meller Optics bietet jetzt eine Vielzahl von kundenspezifischen Mehrloch-Saphir-Waferträgern für die Verarbeitung von GaAs, Indiumphosphid, Silizium und anderen Halbleitern an. Saphir ist das Material der Wahl aufgrund seiner Haltbarkeit, Transparenz, Härte sowie seiner Chemikalien- und Kratzfestigkeit.
-Durchmesser von 2″ bis 6″
-Flachheit und Parallelität bis 0,0025mm
-Optische Qualität Hochreiner synthetischer Saphir
Kundenspezifische Perforationslochgrößen und -muster
-Lamellen und Lasermarkierung verfügbar
Saphir ist nach dem Diamanten der zweithäufigste Werkstoff und bietet einen stärkeren und haltbareren Träger als Quarzglas.
Spezifikationen: Saphir-Wafer-Träger 4.00″ Dia
Durchmesser:4.00″ +/- .002″
Dicke:.040″ +/- .002″, .125″ +/- .002″
Parallelität:0,0025mm
Ebenheit:Kontrolliert durch Parallelität
Oberflächengüte:Poliert 80-50, 2 Flächen
Materialqualität:Optische Qualität
Kristallographische Orientierung: Zufällig oder C-Ebene
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