- Produkte
- Kataloge
- News & Trends
- Messen
Magnetron-Sputter-Auftragsmaschine UNIvapPVD durch thermisches VerdampfenionenstrahlgestützteDünnschicht
Zu meinen Favoriten hinzufügen
Zum Produktvergleich hinzufügen
Eigenschaften
- Technologie
- Magnetron-Sputter, PVD durch thermisches Verdampfen, ionenstrahlgestützte
- Art der aufgebrachten Schicht
- Dünnschicht
- Weitere Eigenschaften
- Vakuum
- Anwendung
- für die Mikroelektronik, für Photovoltaikanwendung
Beschreibung
• Eigenständiges System
• Kompakte und kostengünstige Lösung
• Einfaches Konfigurationsdesign
• Co-Deposition ist möglich
• Gleichmäßigkeit bis zu +/-3 % (bei spezifischem Geometriedesign bis zu +/1 %)
• Zwei Standardgrößen: UNIvap 4S und UNIvap 5S
• Bis zu 8 Depositionsquellen möglich
• Substratgröße bis 100x100 mm oder Durchmesser 100 mm (4") für UNIvap 4S
• Substratgröße bis 150x150 mm oder Durchmesser 150 mm (6") für UNIvap 5S
• OLEDs / Organische Elektronik
• Organische Photovoltaik-Zellen
Verwandte Suchbegriffe
- Beschichtungsmaschine
- PVD-Auftragsmaschine
- Vakuum-Auftragsmaschine
- Dünnschicht-Auftragsmaschine
- Auftragsmaschine / PVD durch thermisches Verdampfen
- Auftragsmaschine für die Mikroelektronik
- Ionenstrahlgestützte-Auftragsmaschine
- Auftragsmaschine für Photovoltaikanwendung
- Beschichtungsmaschine mit Breitschlitzdüse
- Hochpräzisions-Beschichtungsmaschine
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.