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Magnetron-Sputter-Auftragsmaschine PROvapPVD durch thermisches VerdampfenionenstrahlgestützteDünnschicht
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Eigenschaften
- Technologie
- Magnetron-Sputter, PVD durch thermisches Verdampfen, ionenstrahlgestützte
- Art der aufgebrachten Schicht
- Dünnschicht
- Weitere Eigenschaften
- Vakuum
- Anwendung
- für die Mikroelektronik, für Photovoltaikanwendung
Beschreibung
• Integriertes System der Glovebox
• Kompakte und kostengünstige Lösung
• Einfaches Konfigurationsdesign
• Co-Deposition
• Gleichmäßigkeit bis zu +/-3 % (bei spezifischem Geometriedesign bis zu +/1 %)
• Zwei Standardgrößen: PROvap 4G und PROvap 5G
• Bis zu 8 Depositionsquellen möglich
• Substratgröße bis 100x100 mm oder Durchmesser 100 mm (4") für PROvap 4G
• Substratgröße bis 150x150 mm oder Durchmesser 150 mm (6") für PROvap 5G
• OLEDs / Organische Elektronik
• Organische Photovoltaik-Zellen
• Batterien
Verwandte Suchbegriffe
- Beschichtungsmaschine
- PVD-Auftragsmaschine
- Vakuum-Auftragsmaschine
- Dünnschicht-Auftragsmaschine
- Auftragsmaschine / PVD durch thermisches Verdampfen
- Auftragsmaschine für die Mikroelektronik
- Ionenstrahlgestützte-Auftragsmaschine
- Auftragsmaschine für Photovoltaikanwendung
- Beschichtungsmaschine mit Breitschlitzdüse
- Hochpräzisions-Beschichtungsmaschine
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.