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Magnetron-Sputter-Auftragsmaschine MINIvapPVD durch thermisches VerdampfenionenstrahlgestützteDünnschicht
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Eigenschaften
- Technologie
- Magnetron-Sputter, PVD durch thermisches Verdampfen, ionenstrahlgestützte
- Art der aufgebrachten Schicht
- Dünnschicht
- Weitere Eigenschaften
- Vakuum
- Anwendung
- für die Mikroelektronik, für Photovoltaikanwendung
Beschreibung
Kann in bestehende MBRAUN Gloveboxen integriert werden (durch Vorkammer).
• Für Substrate bis zu 50 x 50 mm Wafer
• Kompakte Bauweise
• Wirtschaftliche Lösung
• Kurze Lieferzeit
• Schnelle und einfache Installation
• Einfaches Nachrüsten in bestehende Gloveboxen
Verwandte Suchbegriffe
- Beschichtungsmaschine
- PVD-Auftragsmaschine
- Vakuum-Auftragsmaschine
- Dünnschicht-Auftragsmaschine
- Auftragsmaschine / PVD durch thermisches Verdampfen
- Auftragsmaschine für die Mikroelektronik
- Ionenstrahlgestützte-Auftragsmaschine
- Auftragsmaschine für Photovoltaikanwendung
- Beschichtungsmaschine mit Breitschlitzdüse
- Hochpräzisions-Beschichtungsmaschine
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.