XY-Positioniersystem

DrehLaserVakuum

8 Stationen Halbleiter-Wafer-Indexer Dieses System wurde speziell für die Ionenstrahlbearbeitung von Halbleiterscheiben 2″ oder 3″ bei erhöhten Temperaturen entwickelt. Das Indexierungssystem ermöglicht eine präzise Steuerung der Waferposition und ermöglicht die Stapelverarbeitung von 8 Wafern pro Durchgang. Die Wafer werden zum Heizgerät gedreht und innerhalb von Sekunden aufgeheizt, bevor die Ionenstrahlbearbeitung beginnen kann. Die Temperatur wird durch ein optisches Pyrometer gesteuert, das die Oberflächentemperatur des erwärmten Wafers misst. Eine große Zugangsöffnung ermöglicht die Befestigung der Ionenstrahlinstrumentierung. Der Ofen ist ein komplettes schlüsselfertiges System mit Vakuumsystem, Schutzgassystem, indexierenden Servoregelungen, Temperaturregelungen und Wasserkühlung.