XRD-Diffraktometer Wafer XRD 300

Labor

Die Leistungsfähigkeit Ihrer Werksautomatisierung trifft auf unsere Röntgendiffraktionstechnologie der nächsten Generation. Der Wafer XRD 300 ist ein ultraschnelles, hochpräzises Messmodul zur Steuerung der Kristallausrichtung und der Wafergeometrie. Übersicht Lernen Sie den Wafer XRD 300 kennen: Ihr Hochgeschwindigkeits-Röntgendiffraktionsmodul für die Herstellung von 300-mm-Wafern. Er liefert wichtige Daten zu einer Vielzahl wichtiger Parameter wie Kristallausrichtung und geometrischen Merkmalen wie Kerb- oder Flachpositionen und vielem mehr – sodass es nahtlos in Ihre Prozesslinie passt. Leistungsmerkmale und Vorteile Ultraschnelle Präzision mit unserer proprietären Scantechnologie Die verwendete Methode erfordert lediglich einen Rotationsscan, um alle erforderlichen Daten zu sammeln, um die Kristallausrichtung vollständig zu bestimmen. Dies ermöglicht eine hohe Präzision bei einer sehr kurzen Messzeit von nur wenigen Sekunden. Vollautomatische Handhabung und Sortierung Der Wafer XRD 300 wurde entwickelt, um Ihren Durchsatz und Ihre Produktivität zu maximieren. Die vollständige Integration in Ihre Handhabungs- und Sortierautomatisierung macht ihn zu einer leistungsstarken und effizienten Ergänzung Ihres Prozesses. Einfache Verbindung Die leistungsstarke Automatisierung des Wafer XRD 300 lässt sich problemlos in Ihren neuen oder bestehenden Prozess integrieren, da er sowohl mit MES- als auch mit SECS/GEM-Schnittstellen kompatibel ist.