Hartkunststoff-Poliermaschine CP series

für Plattenzur Endbearbeitungautomatisch

Um dieses Ziel zu erreichen, hat Logitech fortschrittliche chemische Poliersysteme als Endbearbeitungsverfahren für eine breite Palette von Materialien entwickelt. Die Systeme CP3000 und CP4000 erzielen eine hervorragende Oberflächenpolitur mit minimaler Beschädigung der Kristallgitterstruktur an der Oberfläche und unter der Oberfläche. Das CP3000-System ist ein kompaktes System, das in Ihren vorhandenen Abzugsschrank passt. Das CP3000-System kann bis zu drei 112-mm-Proben auf einmal bearbeiten. Das CP4000 ist ein integriertes Rauchgasabsaugsystem, das eine sichere und kostengünstige Lösung für aggressive chemische Poliervorgänge bietet. Dieses System kann entweder 1x 200mm (8″) Wafer auf einem 207mm Trägersubstrat, 3x 100mm (4″) auf 112mm Trägersubstraten, 3x 150mm (6″) Proben auf 160mm Trägersubstraten oder 9x 75mm (3″) Proben auf 83mm Trägersubstraten auf einmal bearbeiten. (mehrere kleinere Proben und einmalige Probengrößen sind ebenfalls möglich) Diese chemischen Poliersysteme sind beständig gegen die Chemikalien, die in Polierprozessen verwendet werden, z. B. Brom-Methanol, Peroxid-Laugen oder Säure-Ätzungen. Eine Zusammenfassung der Merkmale umfasst: Korrosionsbeständige Konstruktion aus Polypropylen, PVDF und epoxidbeschichtetem Polyurethan. Anpassungsfähige Deckanordnung für unterschiedliche Probengrößen und -geometrien. Sorgfältige Beachtung von Sicherheitsaspekten und Bedienerfreundlichkeit. Eignung für die meisten Arten von aggressiven Ätzmitteln (z. B. Brom-Methanol) Wichtigste Merkmale Minimale Beschädigung des Untergrunds Eine breite Palette von Wafergrößen kann poliert werden, bis zu 200 mm (8″) bei der CP4000 Robuste, korrosionsbeständige Konstruktion Feines Ätzpolieren von Halbleiterwafern und elektrooptischen Kristallen Zwei Versionen verfügbar: CP3000 und CP4000