Die Logitech DP-Präzisionspoliersysteme wurden entwickelt, um das Problem der Polierzeiten bei der Bearbeitung von Halbleitermaterialien zu lösen, die in der Branche oft als "schwer" zu polieren beschrieben werden. Diese Systeme wurden für das halbautomatische Endpolieren von harten Materialien wie Saphir, Siliziumkarbid (SiC) oder Galliumnitrid (GaN) entwickelt.
Die DP-Präzisionspoliersysteme sind mit einer oder vier Arbeitsstationen erhältlich und können Materialien bis zu 300 mm (oder mehrere kleinere Proben) auf der DP1 und 260 mm pro Arbeitsstation (oder mehrere kleinere Proben) auf der DP4 bearbeiten. Die DP-Systeme verfügen über spezielle Polierträgerköpfe, die eine hohe Abwärtskraft pro Trägerkopf auf die Proben ausüben, während die Rotationsgeschwindigkeit und -richtung vollständig steuerbar sind. Das Ergebnis ist der höchste Probendurchsatz aller Logitech-Systeme.
Die Kapazität der DP-Präzisionspoliersysteme macht sie ideal für kleine Forschungslabors bis hin zu Produktionsumgebungen.
Die DP-Systeme sind chemisch resistent gegen die bei CMP-Anwendungen verwendeten Standardchemikalien, einschließlich Natriumhypochlorit (Na OCL).
Typische Möglichkeiten der Oberflächenbearbeitung:
Saphir: <1nm
GaN: <1nm
SiC: <3nm
Wesentliche Merkmale
Eigenständige Systeme mit einer oder vier Arbeitsstationen, mit einer Verarbeitungskapazität von bis zu 300 mm bei der DP1 und 260 mm pro Arbeitsstation bei der DP4 (oder mehrere kleinere Proben).
Der DP1-Polierträgerkopf kann bis zu 200 kg herunterladen und der DP4 kann bis zu 50 kg pro Trägerkopf herunterladen, was zum höchsten Probendurchsatz aller Logitech-Poliersysteme führt.
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