Die iStack™ S+ ist für High-End-Epoxid- und Filmdie-Attach-Anwendungen mit Prozessflexibilität konzipiert, um sowohl die Speicher- als auch die Bildanwendungen zu unterstützen. Zu den erweiterten Prozessmerkmalen gehören der Face-Down-Prozess, der In-Situ-UV- und Bond Force Detection-Mechanismus, der Produktivitätssteigerung und Leistung ermöglicht.
Funktionen & Optionen
Hochpräzisionskit (5 μm)
Kit zur Handhabung von dünnen Substraten (< 100 μm)
Mapping-Funktionen (Substrat / Wafer)
Kit zur Entfernung von Wafer-/Substratverunreinigungen
OHT / AGV Bausatz
SMEMA-Bausatz
UV (In-Situ / Post-Bond)
Werkzeugverschmutzungsüberwachungsset
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