Ein hitzebeständiger Hochleistungsfilter und unsere einzigartige Kühleinheit ermöglichen das Backen bei hohen Temperaturen in einer sauberen Umgebung (max. 530°C (max. 500°C für das Modell V)).
Das Heißluftzirkulationssystem ermöglicht eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit und Luftreinheitsklasse 100 (bei stabiler Temperatur).
Dieser Ofentyp ist optimal für das Backen von Halbleiterwafern und Glassubstraten sowie für die Alterung und andere Wärmebehandlungen, die hohe Temperaturen und hohe Genauigkeit erfordern.
Durch Einleiten von Stickstoff (N2) in die Kammer sind Wärmebehandlungen bei 20 ppm oder niedrigeren Rest-O2-Konzentrationen möglich.
Merkmale
Ein hitzebeständiger Hochleistungsfilter und unsere einzigartige Kühleinheit sind installiert, um das Backen bei hohen Temperaturen zu ermöglichen.
Das Innere der Kammer kann die Reinheitsklasse 100 aufrechterhalten, wenn die Temperatur stabil ist.
Es gibt zwei Arten von Heißluftgebläsen: ein Frontseitengebläse mit horizontaler Zirkulation (Typ V) und ein Seitengebläse (Typ III). Beide ermöglichen einen hohen thermischen Wirkungsgrad und eine gute Temperaturgleichmäßigkeit.
Optimal für das Backen von Halbleiterwafern und Glassubstraten, das Altern und andere Wärmebehandlungen, die eine hohe Genauigkeit erfordern.
In die Kammern können Inertgase eingeleitet werden, um die Öfen als Inertgasöfen zu verwenden.
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