Die meistverkauften Reinigungsöfen für Flüssigkristalle (LCD) und organische Leuchtdioden (OLED)!
Diese Öfen, die Glasgrößen bis zur 10. Generation unterstützen, bieten eine hohe Produktivität und einen hohen Reinigungsfaktor und ermöglichen es, das Substrat nicht zu beschädigen. Sie können auch die beim Nachbacken entstehenden Sublimate abfangen.
Merkmale
Hohe Produktivität
Hoher Reinheitsgrad und keine Beschädigung des Substrats
Hohe Betriebsgeschwindigkeit
Energieeinsparung
Unterstützung für eine Vielzahl von Layouts
Unterstützung für alle Arten von Substratoperationen
Kann auch Sublimaten entgegenwirken.
Hohe Produktivität
Der Ständerabstand im Inneren des Ofens wurde verringert, und die Ständerstruktur ist speziell für jede Verarbeitungsanwendung konzipiert (Patent erworben).
Er bietet eine hohe Lagereffizienz sowie eine hervorragende Raum- und Energieeffizienz. Außerdem kann er flexibel eingesetzt werden, z. B. durch Begrenzung der Anzahl der verwendeten Öfen je nach Produktionsmenge.
Hoher Reinheitsgrad und keine Beschädigung des Substrats
Unsere originelle, zum Patent angemeldete Shutter-Struktur macht es überflüssig, die Substrate innerhalb des Ofens zu bewegen. Folglich gibt es keine Substratbeschädigungen oder Partikel, die durch die Bewegung entstehen.
Hohe Betriebsgeschwindigkeit
Da die Struktur der Anlage einfach ist, gibt es kaum Bedenken, dass die Anlage aufgrund mechanischer Probleme ausfällt, und die Anlage kann bedenkenlos eingesetzt werden.
Energieeinsparung
Die Vakuumsteuerung im Inneren des Ofens und die hoch wärmeisolierende Struktur reduzieren die Menge der abgegebenen Wärme.
Eine neu entwickelte Abwärmerückgewinnungsanlage (zum Patent angemeldet) kann die effektive Energienutzung verbessern.
---