Dieses System für 4 - zu den 8-Zoll- Wafers führt Aktivierung und Oxidation in einer Umwelt- und N2schleuseatmosphäre des Vakuum (LP) durch. Die oberen und untereren Querlampen (Halogen) und ein tränkendes System werden für höhere auf gleicher Ebene Temperaturverteilungseinheitlichkeit benutzt.
Eigenschaften
Obere u. unterere Querlampenstruktur und uniformizing Einheit erhitzen, die Einheitlichkeit der Temperatur auf gleicher Ebene zu verbessern
4- zum 8-Zoll- Wafer ist Größe verfügbar
Sauberer Multiachsenroboter ermöglicht Hochgeschwindigkeits- und genauer Oblatenübertragung
Die maximale ununterbrochene Verarbeitung mit 50 Oblaten ist verfügbar
Ausgerüstet mit einem Betreiber-freundlichen Hochleistungskontrollsystem
Vakuum entworfenes Quarzrohr ermöglicht genauem Gasersatz und -prozeß mit Vakuumdruck
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