Schrankmodell-Ofen VF-1000

OxidationelektrischLabor

Dieser kleine vertikale Produktionsofen für Experimente und Forschung (F&E) ermöglicht eine hochwertige Verarbeitung. Dieser Ofen ist kompakt und benötigt nur eine kleine Aufstellfläche, ist aber für einen großen Bereich von Wafer-Durchmessern geeignet und weist die gleichen Temperatureigenschaften auf wie die Öfen für die Massenproduktion. Merkmale Hochleistungsprozessierung für F&E Mini-Batch, max. 25 Wafer Batch-Verarbeitung 2- bis 8-Zoll- und 300-mm-Wafergröße sind verfügbar Ausgestattet mit einer LGO-Heizung, um die gleiche Hochtemperaturleistung wie in der Massenproduktion zu erzielen Ausgestattet mit einem einfachen Kontrollsystem mit begrenzter Funktion Dieser Vertikalofen für Experimente, Forschung (F&E) und Kleinproduktion kann für eine breite Palette von Wafergrößen von 2 bis 8 Zoll und bis zu 300 mm verwendet werden, und auch die Größe der Kleinserie kann mit bis zu 25 Wafern gewählt werden. Da der Heizer aus einem LGO-Heizer und verschiedenen anderen Heizern ausgewählt werden kann, ist die Prozessentwicklung mit der gleichen Ofenöffnungsstruktur und Heizerleistung wie bei Öfen für die Massenproduktion möglich. Dieser Ofen kann für verschiedene Silizium-Wafer-Behandlungen (LPCVD, Oxidation und Diffusion), für das Oxynitridieren von Silizium-Gates und das Aktivierungsglühen für die Entwicklung von Leistungsbauelementen (Si und SiC) sowie für eine breite Palette anderer Prozesse verwendet werden.