Schrankmodell-Ofen VF-5900

WärmebehandlungOxidationelektrisch

Dieser Ofen ist ein Wärmebehandlungssystem für die Oxidation, Diffusion und CVD von Siliziumwafern, IGBTs, Polyimid und dünnen Wafern. Als unser Vorzeigemodell ist dieser Ofen mit einem Großraumlager ausgestattet und zeichnet sich durch eine kurze Zykluszeit aus. Merkmale Großes Batch, Max 100 Wafer Batch-Verarbeitung Maximal 16 FOUP-Lager Hervorragende Temperaturkontrolle vom niedrigen bis zum mittelhohen Temperaturbereich durch den Einsatz eines LGO-Heizers Hochgeschwindigkeits-Wafer-Transfer durch den Einsatz von Robotern für die Handhabung von einzelnen/fünf Wafern Ausgestattet mit einem bedienerfreundlichen, leistungsstarken Steuerungssystem Dieser vertikale Diffusionsofen für die Großserienproduktion kann maximal 100 Wafer (300 mm / 12 Zoll) oder 16 FOUPs pro Charge verarbeiten. Ein LGO-Heizgerät sorgt für hervorragende Temperatureigenschaften von niedrigen bis zu mittelhohen Temperaturen. Neben Siliziumwafern eignet sich der Ofen auch für die Wärmebehandlung von IGBT, Polyimid, dünnen Wafern und anderen Materialien.