Kammerofen VF-5300H

GlühNitrierReinigung

Ein vertikaler Ofen für die Hochtemperaturverarbeitung, ideal für die Herstellung von Leistungsgeräten. Unterstützt Oxynitridierung und Wafer mit einer Größe von bis zu 8 Zoll. Verfügt über einen automatischen Wafer-Transfermechanismus und kann für die Massenproduktion verwendet werden. Merkmale Unterstützt max. 75 Wafer (200mm / 8-inch) oder max. 100 Wafer (150mm / 6-inch) und den Einsatz in Massenproduktionslinien. Unterstützt eine breite Palette von Wafergrößen bis zu 8 Zoll. Ermöglicht die Temperaturüberwachung in Wafernähe. Das Innere des Ofens besteht aus unserer patentierten metallfreien Konstruktion. Unterstützt die serielle Verarbeitung verschiedener Oxidations-/Oxynitrierverfahren (Nass-/Trockenoxidation, H2-Glühen, NH3-Nitrieren, NO/N2O-Oxynitrieren). Kammerreinigungsmechanismus (Option) Der VF-5300H ist ein Vertikalofen, der maximal 100 Wafer pro Charge und ein breites Spektrum an Wafergrößen von 3 bis 8 Zoll verarbeiten kann. Sorgfältig ausgewählte Hardware- und Steuerungssystemmerkmale ermöglichen den Einsatz in Massenproduktionslinien. Das Innere des Ofens besteht aus unserer patentierten metallfreien Konstruktion. Der VF-5300H ermöglicht die Verarbeitung bei hohen Temperaturen und ist damit ideal für die Herstellung von Leistungsgeräten. Er kann auch Oxynitrierungen durchführen.