Temperaturüberwachungssystem Process Probe™ 1730für die Prozess-Steuerung
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Eigenschaften
- Typ
- Temperatur
- Anwendungsbereich
- für die Prozess-Steuerung
Beschreibung
Der Process Probe™ 1730 ermöglicht die präzise In-situ-Charakterisierung von Wafer-Temperaturprofilen in Photoresist-Track-Systemen, temperaturgesteuerten Wafer-Chuck-Systemen, Ofenanwendungen sowie Resist-Bake-, Polyimid- und SOG-Anwendungen. Der Process Probe 1730 hilft Ingenieuren bei der Charakterisierung und Feinabstimmung der Prozessbedingungen, um die Leistung der Prozessanlagen zu verbessern und die Ausbeute zu erhöhen.
Anwendungen
Prozessentwicklung, Prozessqualifizierung, Prozesswerkzeugqualifizierung, Prozesswerkzeuganpassung
Lithografie-Track-Systeme, temperaturgesteuerte Wafer-Chuck-Systeme und Öfen | -150-300°C
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In Situ Process Management
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.