Temperaturüberwachungssystem Process Probe™ 1530/1535MessEchtzeit
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Eigenschaften
- Typ
- Temperatur
- Anwendungsbereich
- Mess
- Weitere Eigenschaften
- Echtzeit
Beschreibung
Die Process Probe™ 1530 und 1535 instrumentierten Wafer werden zur Überwachung von In-situ-Temperaturen für eine Vielzahl von Prozessen verwendet, darunter Kaltwand, RTP, Sputtern, CVD, Plasmastripper und Epitaxiereaktoren. Die Process Probe 1530 und 1535 ermöglichen die direkte Echtzeitmessung der Wafertemperatur während jedes kritischen Schrittes des Prozesszyklus. Mit diesen umfassenden Temperaturdaten können Prozessingenieure die Prozessbedingungen charakterisieren und feinabstimmen und so die Leistung der Prozessanlagen, die Waferqualität und die Ausbeute verbessern.
Anwendungen
Prozessentwicklung, Prozessqualifizierung, Prozesswerkzeugqualifizierung, Prozesswerkzeuganpassung
Kaltwand-Dünnschicht-Prozesskammern (1530), Heißwand-Dünnschicht-Prozesskammern (1535) | 0-1100°C
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In Situ Process Management
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.