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Temperaturüberwachungssystem Process Probe™ 1530/1535
MessEchtzeit

Temperaturüberwachungssystem
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Eigenschaften

Typ
Temperatur
Anwendungsbereich
Mess
Weitere Eigenschaften
Echtzeit

Beschreibung

Die Process Probe™ 1530 und 1535 instrumentierten Wafer werden zur Überwachung von In-situ-Temperaturen für eine Vielzahl von Prozessen verwendet, darunter Kaltwand, RTP, Sputtern, CVD, Plasmastripper und Epitaxiereaktoren. Die Process Probe 1530 und 1535 ermöglichen die direkte Echtzeitmessung der Wafertemperatur während jedes kritischen Schrittes des Prozesszyklus. Mit diesen umfassenden Temperaturdaten können Prozessingenieure die Prozessbedingungen charakterisieren und feinabstimmen und so die Leistung der Prozessanlagen, die Waferqualität und die Ausbeute verbessern. Anwendungen Prozessentwicklung, Prozessqualifizierung, Prozesswerkzeugqualifizierung, Prozesswerkzeuganpassung Kaltwand-Dünnschicht-Prozesskammern (1530), Heißwand-Dünnschicht-Prozesskammern (1535) | 0-1100°C

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Dies ist eine automatische Übersetzung.  (Originaltext auf Englisch anzeigen)

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