Film-Metrologie-Systeme
Das SpectraFilm™ F1-Filmmesssystem trägt dazu bei, strenge Prozesstoleranzen bei Logik- und Spitzenspeicherdesignknoten unter 7 nm zu erreichen, indem es hochpräzise Dünnschichtmessungen für eine breite Palette von Filmschichten ermöglicht. Die lichtstarke Lichtquelle treibt die spektroskopische Ellipsometrietechnologie an, die das Signal liefert, das für die genaue Messung der Bandlücke erforderlich ist und einen Einblick in die elektrische Leistung gibt, und zwar Wochen früher als bei der E-Prüfung. Neue FoG™-Algorithmen (Films on Grating) erhöhen die Korrelation der Messung mit dem Bauelement weiter, indem sie die Messung von Schichten auf einer bauelementähnlichen Gitterstruktur ermöglichen. Mit erhöhtem Durchsatz bietet SpectraFilm F1 eine hohe Produktivität und unterstützt die erhöhte Anzahl von Filmschichten, die mit modernsten Bauteilherstellungstechniken verbunden sind.
Anwendungen
Bandgap-Überwachung, Technische Analyse, Inline-Prozessüberwachung, Werkzeugüberwachung, Prozesswerkzeuganpassung
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Das SpectraFilm™ LD10-Filmmesssystem bietet zuverlässige, hochpräzise Messungen von Dünn- und Dickschichtdicke, Brechungsindex und Spannung für eine breite Palette von Filmschichten am 16-nm-Designknoten und darüber hinaus.
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