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CVD-Vakuumbeschichtung
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Beschreibung
Großflächige vertikale Sputtering-Anlage
・Effektiver Schichtbildungsbereich
300mm×100mm
・Anlagenkonfiguration
Vertikale RAM-Kathodenzerstäubungskammer
・Filmmaterial
TCO (ITO usw.) / Metalle (Cu usw.) / Metalloxide (NiO usw.) / C (DLC) / Andere
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.