Plasmaquelle für Oberflächenbehandlung BS-80011BPG

Die Plasmaquellen sind in eine Vakuumkammer eingebaut und erzeugen ein hochdichtes Plasma. Die Plasmaquelle kann für die plasmagestützte Abscheidung (Ionenplattierung) verwendet werden und ermöglicht die Verbesserung der Filmeigenschaften für optische Dünnschichten, Schutzschichten und Funktionsschichten. Sie kann auch für Plasmabehandlungen wie Reinigung und Oberflächenmodifikation verwendet werden. Merkmale Das Niederspannungs- und Großstromplasma ermöglicht die Ionisierung und Anregung von Gasmolekülen und verdampften Partikeln. Reaktive Abscheidung ist möglich, besonders geeignet für die Förderung der Filmoxidation. Plasma mit hoher Dichte kann in einem großen Raum erzeugt werden, so dass eine großflächige Abscheidung mit hoher Rate möglich ist. Die Nachrüstung einer bestehenden Vakuumkammer ist möglich. Wirkung Verbesserung der Schichtdichte, des Brechungsindexes Herstellung von umweltstabilen Filmen Geringe Wellenlängenverschiebung Geringe optische Absorption (Förderung der Filmoxidation) Verbesserung der Filmhaftung Verbesserung der Oberflächenrauhigkeit Kontrolle der Filmspannung Spezifikationen Maximale Plasmaleistung ： 6kW (160V, 38A) Betriebsdruck ： 1×10-2 bis 1×10-1Pa (Ar, O2, N2 Atmosphäre) Entladungsgas (Ar) ： 8 bis 20mL/min Kühlwasser ： 7 bis 10L/min Strahlverfahren ： wählbar aus Reflexions- und Bestrahlungsstrahl