Lithografiesystem mit elektronischem Strahl JBX-3050MV

JBX-3050MV ist ein Elektronenstrahllithographiesystem mit variabler Form für die Maskenherstellung von 45 nm bis 32 nm Knoten. Seine Spitzentechnologie sorgt für hohe Geschwindigkeit, hohe Präzision und hohe Zuverlässigkeit. Dieses EB-System verwendet einen variabel geformten 50-kV-Elektronenstrahl und eine Step-and-Repeat-Stufe. Merkmale Das JBX-3050MV ist ein Elektronenstrahl-Lithografiesystem für die Herstellung von Masken/Retikeln, das die Designregel von 45 bis 32 nm erfüllt. Dieses System zeichnet sich durch hohe Geschwindigkeit, hohe Genauigkeit und hohe Zuverlässigkeit aus, die durch High-End-Technologie erreicht werden.