Lithografiesystem mit elektronischem Strahl JBX-8100FS

Laser

Bei der Konstruktion der JBX-8100FS haben wir einen vollständig überarbeiteten Ansatz in Bezug auf Design und Leistung gewählt. Aufbauend auf unsere bewährten Lithographiesysteme, konnten wir in die JBX-8100FS Neuerungen implementieren, die bei rein inkrementellen Veränderungen nicht umsetzbar gewesen wären. Während das Exterieur mit der reduzierten Größe auf den ersten Blick am deutlichsten hervorsticht, sind es die Verbesserungen im Inneren des Systems, welche die eigentlichen Veränderungen beinhaltet. Durch das Einsetzen von maßgeschneiderten Bauteilen wurde unseren Ingenieuren die Freiheit gegeben, die Leistungsfähigkeit des Systems auf ein neues Niveau zu heben. Das Ergebnis ist ein wahrhaft innovatives Lithographiesystem in einem modularen Design, reduzierter Baugröße, geringem Energieverbrauch sowie der welthöchsten Rastergeschwindigkeit für jedes Einsatzgebiet. Zusammengefasst ist die neue JBX-8100FS das innovativste Lithographiesystem, welches wir je entwickelt haben. Merkmale 1. Kleine Aufstellfläche Die verkleinerte Aufstellfläche von 4,9 m (W) x 3,7 m (D) x 2,6 m (H) hilft wertvollen Reinraumplatz zu sparen. 2. Energieeffizient Der Energieverbrauch wurde um 30% reduziert. 3. Hoher Durchsatz Durch die Steigerung des Rastergenerators auf 125MHz sowie durch den Einsatz von zwei neuen Belichtungsmodi können sowohl ultrafeine Strukturen als auch mittelgroße Produktionszyklen abgedeckt werden. 4. Version Die JBX-8100FS ist in zwei Versionen verfügbar: G1 (Standardmodell) und G2 (Voll ausgestattetes Modell). Bei Bedarf kann das Standardmodell modular mit weiterem Zubehör aufgerüstet werden.