Aluminiumbarren

Anwendungsbereiche Sputtertargets für die Produktion von Halbleiterchips Sputtertargets für die Produktion von Flachbildschirmen Aufdampfwerkstoffe für hochmoderne Dünnschichtanwendungen Höchstreines Aluminiumoxid für Batterieanwendungen Höchstreines Aluminiumoxid für die Fertigung von LED-Chips Glänzende Oberfläche und dekorative Verwendung Produktdetails Reinheitsgrade von 99,998 bis 99,9999 Prozent (4N8–5N5) Brammen, übliche Größe 460 mm × 1600 mm × 3000 mm, maximale Gusslänge 6300 mm Knüppel, üblicher Durchmesser 84–420 mm, maximale Gusslänge 2800 mm Barren, übliches Barrengewicht 120 kg Massel, übliches Masselgewicht 300 kg Pyramiden Wollen Sie Einzelheiten zu diesen Produkten erfahren? Laden Sie unsere Broschüre „Hochreines Aluminium“ herunter (auch auf Japanisch verfügbar). Wichtigste Eigenschaften Höchste Reinheit Extrem geringer Grad an Verunreinigungen und Spurenelementen 3-Schicht-Elektrolyse in Kombination mit trennender Veredelungstechnik