Titandioxyd-Pulver 12033-62-4

Tantalnitrid (TaN) verfügt über hervorragende physikalische, chemische und mechanische Eigenschaften (z. B. hohe Härte, Verschleißfestigkeit, chemische Inertheit, thermische Stabilität und niedriger Temperaturkoeffizient des Widerstands) und findet in China breite Anwendung in verschleißfesten Beschichtungen, Dünnschichtwiderständen und integrierten Schaltkreisen, Diffusionsbarrieren und anderen Bereichen. Molekulargewicht: 194,9 Dichte:13,4g/m3 Farbe:grau Schmelzpunkt:3090℃ Stickstoffgehalt:≥6.8 Siedepunkt:4800℃ EINECS (EG-NR.)：234-788-4 Tantalnitrid (TaN) hat hervorragende physikalische, chemische und mechanische Eigenschaften (wie hohe Härte, Verschleißfestigkeit, chemische Inertheit, thermische Stabilität und niedriger Temperaturkoeffizient des Widerstands) und ist weit verbreitet in verschleißfesten Beschichtungen, Dünnfilmwiderständen und integrierten Schaltkreisen Diffusionsbarrieren und anderen Bereichen in China verwendet. 1.Hohe Reinheit: die höchste Reinheit kann 99,99% erreichen, XRD erkennen keine Verunreinigung Phase.