Massendurchflussregler GR-511Ffür Gas
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Eigenschaften
- Technologie
- Massen
- Flüssigkeit
- für Gas
- Druck
3 bar, 4 bar
(43,5 psi, 58 psi)
Beschreibung
Der GR-511F kann Gase steuern, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind.
Dank seiner Stabilität und Genauigkeit ist der GR-511F ideal für die Steuerung des Helium- und Argonflusses in Wafer-Kühlsystemen.
MERKMALE
Druckregelung mit höherer Stabilität und Genauigkeit
Massendurchflusssensor (Option)
Kompatibel für verschiedene Fittings
RoHS-Konformität
Anwendungsbeispiel
Im folgenden Beispiel steuert der GR-511F die Gase, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind.
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.