Spektroskop EV-140C

Dieser Endpunktmonitor vom Typ Emissionsanalyse ist für die Endpunktdetektion oder die Kontrolle des Plasmazustands im plasmabasierten Halbleiter-Dünnschichtprozess vorgesehen. Der neu entwickelte Rapture Intensity-Algorithmus ermöglicht eine genaue Endpunktdetektion durch Erfassung schwacher Signaländerungen. Die Fähigkeit, subtile Änderungen in der Emission zu erfassen, hat die Empfindlichkeit erheblich verbessert. Die verbesserte Rauschimmunität gewährleistet einen äußerst stabilen Betrieb in den rauen Umgebungen von Produktionslinien, die rund um die Uhr laufen. Merkmale Helles Gitter mit einem Öffnungsverhältnis von F/2 Ein helles optisches System wird durch die Verwendung eines großen, aberrationskorrigierenden konkaven Gitters mit einem Durchmesser von 70 mm erreicht, das von HORIBA Jobin Yvon hergestellt wird. Die Lichtsammelfähigkeit des konkaven Gitters selbst ermöglicht die Konstruktion eines einfachen optischen Systems, das heller ist als Czerny-Turner-Spektroskope und das den durch Spiegel und andere reflektierende Oberflächen verursachten Reflexionsverlust minimieren kann. Rückbeleuchteter CCD-Zeilensensor mit hoher Empfindlichkeit und hoher Auflösung von 2.048 Kanälen Der rückseitig beleuchtete CCD-Sensor erreicht eine hohe Quanteneffizienz, die eine stabile Spektroskopie im breiten Spektrum vom UV bis zum sichtbaren Bereich gewährleistet. Die hochempfindliche Messung, die insbesondere im UV-Bereich möglich ist, ermöglicht eine Endpunktdetektion in dem weniger von Störungen betroffenen Wellenlängenbereich. Sigma-P-Software für erweiterte Prozesskontrolle Diese Software führt eine Vielzahl von Schritten aus, die für die Prozesssteuerung erforderlich sind, von der Analyse des Plasmaverhaltens über die Erstellung von Datenbanken mit Messdaten bis hin zur Fernsteuerung von Fertigungsanlagen.