Gasdruckcontroller GR-300

Die Serie GR-300 kann Gase steuern, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind. Dank seiner Stabilität und Genauigkeit ist der GR-300 ideal für die Steuerung des Helium- und Argonflusses in Wafer-Kühlsystemen. Druckregelung mit mehr Stabilität und Genauigkeit Massendurchflusssensor (Option) Kompatibel für verschiedene Fittings RoHS-Konformität Im folgenden Beispiel steuert die Serie GR-300 die Gase, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert werden.