Das Hitachi NE4000 nanoEBAC ist ein elektronenstrahlbasiertes Prüfsystem für die elektrische Charakterisierung und EBAC-Analyse und Bildgebung von mikroelektronischen Bauteilverbindungen, Materialien und Komponenten.
Die EBAC-Technik (Electron Beam Absorbed Current) bietet eine schnelle und effektive Methode zur Identifizierung von offenen Schaltkreisen, hohen Widerständen und Kurzschlüssen entlang der Verbindungen, ohne dass die unteren Schichten direkt untersucht werden müssen.
Bei der EBAC-Technik wird der Elektronenstrahl durch die dielektrischen Schichten bis hinunter zu den Metallisierungsschichten der unteren Ebene geführt, um den Elektronenstrahlstrom zu absorbieren. Die Elektronenstrahl-Beschleunigungsspannung des FESEM steuert die Sondierungstiefe oder den Durchdringungsgrad durch die dielektrischen Schichten. Eine einzelne Sonde wird auf der freiliegenden oberen Metallisierungsschicht platziert, um den Stromkreis zu schließen und die Elektronen durch die Verbindung fließen zu lassen.
Die Beobachtung von hohen Widerständen und Kurzschlüssen aufgrund des Seebeck-Effekts ist durch die Verwendung von Doppelsonden zusammen mit den von Hitachi patentierten EBAC-Differenzverstärkern möglich.
Benutzerfreundliches Design
- Intuitive GUI (Graphical User Interface) mit verschiedenen Bild- und Farbverarbeitungsfunktionen.
- Die Grobpositionierung der Sonden wird durch ein integriertes CCD-Kamerasystem in der Kammer ermöglicht.
Erstklassige Bildqualität
- Liefert EBAC-Bilder in hoher Qualität mit den patentierten Hochleistungs-EBAC-Verstärkern von Hitachi.
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