Fokussiertes Ionen Strahl System NX2000

FIB-SEM-Systeme sind zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Charakterisierung und Analyse der neuesten Technologien und Hochleistungsmaterialien im Nanobereich geworden. Die ständig steigende Nachfrage nach ultradünnen TEM-Lamellen ohne Artefakte während der FIB-Bearbeitung erfordert die besten Technologien in der Ionen- und Elektronenoptik. Das Hochleistungs-FIB- und hochauflösende SEM-System NX2000 von Hitachi mit seiner einzigartigen Probenausrichtungssteuerung* und Triple-Beam*-Technologie unterstützt die TEM-Probenvorbereitung mit hohem Durchsatz und hoher Qualität für modernste Anwendungen. Die kontrastreiche Echtzeit-SEM-Endpunktdetektion ermöglicht die Präparation ultradünner TEM-Proben von Bauteilen unter 20 nm. Die Mikroprobenahme* und der hochpräzise Positionierungsmechanismus* ermöglichen die Kontrolle der Probenorientierung für Anti-Curtaining-Effekte (ACE-Funktion) und gleichmäßig dicke Lamellen. Dreistrahlsystem* Dreistrahlkonfiguration für Ga FIB-induzierte Schadensreduzierung. - Ar/Xe-Ionen 3. Säule - Mikro-Probenentnahme-System - Multi-Gas-Injektionssystem - Doppelkippsystem - Swing-Funktion (für Ar/Xe-Ionen 3. Säule) - TEM-Probenvorbereitungs-Assistent - Automatische TEM-Probenvorbereitungssoftware - CAD-Navigationssoftware - Verknüpfungssoftware mit Fehlerprüfgeräten - Luftschutzhalterung - Kühlhalterung - Plasma-Reiniger - EDS-System (Energiedispersive Röntgenspektroskopie)