NX2000 ist ein für Halbleiteranwendungen optimiertes FIB-SEM (Defektanalyse mit KLARF-Koordinatenimport, TEM-Lamellenextraktion, Bauelementeentwicklung). Mit 205 x 205 mm X,Y-Verfahrweg erlaubt der Probentisch sogar die vollflächige Bearbeitung von 200 mm-Wafern ohne Probendrehung. Die vertikal montierte Ga-FIB erlaubt bis zu 100nA Ionenstrom bei 30 kV. Die FE-SEM-Säule ist mit einem Kaltfeldemitter ausgestattet.
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