Anisotropiefaktor-Messsystem 2-MGEM

optischLaborMikroskop

Ein neues Instrument, das in Zusammenarbeit mit dem Oak Ridge National Laboratory entwickelt wurde, trägt zum besseren Verständnis der Kernbrennstoffe der 4. Generation und der reflektierten Polarisationseigenschaften bei. Das 2-MGEM Optical Anisotropy Factor Measurement System ist ein Normaleinfalls-Polarisations-Reflexionsmikroskop zur Messung der Mueller-Matrix der Probe und wurde mit dem R&D 100 Award 2008 ausgezeichnet. Dieses System ist speziell für die Bewertung des optischen Anisotropiefaktors (OPTAF) von Querschnitten von TRISO-Kernbrennstoff-Pyrokohlenstoffschichten konzipiert. Andere mögliche Materialcharakterisierungen umfassen die Messung von Mueller-Matrixelementen anderer Kristalle, Kohlenstoffverbindungen und Dünnfilmbeschichtungen (z. B. Oberflächenbeschichtungen) bei normalem Einfall. Das 2-MGEM kann auch die Retardation (d), die zirkuläre Diattenuation (CD) und den Polarisationsfaktor (ß) messen. Diese Parameter sind mit älteren Techniken nicht messbar, da diese Techniken kein kompensierendes optisches Element enthalten. Wenden Sie sich an uns, wenn Sie weitere Informationen über das 2-MGEM-System wünschen und erfahren Sie, wie Hinds Instruments mit seinen Kunden zusammenarbeitet, um komplexe messtechnische Probleme zu lösen. Messen von TRISO: Das Verständnis der bevorzugten Ausrichtung des Graphits in den inneren (IPyC) und äußeren (OPyC) TRISO-Beschichtungsschichten kann Probleme bei der Formationsausrichtung erkennen, die zu einem vorzeitigen Versagen des Containments führen.