Doppelbrechungs-Messsystem Exicor® DUV series

Das Exicor® DUV und 193 DUV Systeme messen Doppelbrechung an den tiefen ultravioletten Wellenlängen. 2003 ?FORSCHUNG UND 100? wurde award-winning Exicor DUV System entwickelt, um tatsächliche Doppelbrechung in den Objektivmaterialien des Kalziumfluorids (CaF2) an der Anwendung Wellenlänge von 157 Nanometer auszuwerten. Das folgende Exicor 193 DUV Foki auf einer Vielzahl der Materialien benutzt in 193 Nanometer lithographischen Systemen, besonders Immersion 193 Nanometer Lithographiesysteme, die die hochwertigste Optik verlangen. Beide dieser Systeme erfüllen das Maß an der Wellenlänge der Gebrauchgrundregel verlangt Präzision von den optischen Materialherstellern, die den Technologieumschlag drücken. Die Exicor Systeme DUV und 193DUV sind die Primärsysteme, die durch das führende Lithographie industryoptics benutzt werden, herstellt, um Doppelbrechung in den Objektivraummaterialien und in den Photomaske freien Räumen DUV an den lithographischen Wellenlängen (157 Nanometer, 193 Nanometer, 248 Nanometer) zu messen. Diese Systeme werden mit einem robusten Rahmen und Hochleistungsbewegung Steuerbestandteilen für messende Optik bis 400 Millimeter X.400 Millimeter und 200+ Millimeter dick errichtet. Das Exicor DUV System verwendet auch ein einzigartiges beschränktes Sauerstoffversetzung System im Beispielraum, weil 157 Nanometer ein UVlicht durch Sauerstoffmoleküle aufgesogen wird. Dieses sauberer trockener Stickstoff Bereinigungsklima verhindert auch das Erzeugung des Ozons im DUV Beispielraum. Das Bereinigen wird nicht für 193 Nanometer und 248 Nanometer Maße angefordert. Diese Systeme läßt großes Abtastungstadium auch mehrfache kleinere Teile des Ladens auf dem Stadium zu, wenn die wahlweise freigestellte Exicor Macro+ Software automatisierte Programme durchführt, um jedes Teil einzeln abzulichten.