Eine 5keV-Argon- oder -Sauerstoff-Ionenquelle für UHV-Oberflächenanalyseanwendungen
Das IG20 verfügt über eine helle Elektronenstoß-Gas-Ionenquelle, die speziell für Sauerstoff entwickelt wurde, aber auch für den Einsatz mit Inert- und anderen Gasen geeignet ist.
Dünne Schichten Optische Beschichtung
Elektronische Materialien
Nukleare Materialien
Das IG20 ist als primärer Ionenstrahl für SIMS-, Auger- und XPS-Anwendungen zur Bildgebung und Tiefenprofilierung konzipiert. Durch den intern erzeugten Rasterscan und die große Auswahl an Betriebsparametern eignet es sich jedoch auch für die Probenreinigung und für oberflächenwissenschaftliche Experimente. Zwei vom Benutzer auswechselbare Filamente gewährleisten einen kontinuierlichen Betrieb im Falle eines durchgebrannten Filaments, das der Benutzer nach Belieben austauschen kann.
Intensiver Ionenstrahl mit 100 µm Spotgröße und Energien von 0,5 - 5 keV
Hohe Stromdichte, bis zu 4,5 mA/cm2
Elektronenstoß-Ionenquelle mit der Möglichkeit, Argon und Sauerstoff zu verwenden
Lenkungsoptik für Linienstreuung und Strahlrasterung bei der Tiefenprofilierung
3° Offset in der Ionenkanonensäule für optimale Unterdrückung von Neutralen
Strahlaustasteinrichtung für schnelle Strahlumschaltung bei Rasterungsanwendungen
Differentialpumpen der Quelle für eine geringere Gasbelastung der Kammer
Leicht austauschbare Doppelfilament-Baugruppe
Durchlaufgeschwindigkeiten bis zu 64 µs
Integrierter Betrieb mit SIM- und EQS-Sonden für direkte Rasterraten-/Flächensteuerung
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