Massenspektrometer PSM

vierpoligChemieProzess

Ein Masse- und Energieanalysator für die Plasmadiagnostik Die Plasmasonden von Hiden messen einige der wichtigsten Plasmaparameter und liefern detaillierte Informationen über die Chemie der Plasmareaktion. Plasma-Charakterisierung Plasma-Ätzen und ALE HiPIMS Diamantähnliche Kohlenstoff (DLC)-Beschichtung Gepulste Laserabscheidung (PLD) Beschichtungen DC-Magnetron-Beschichtung von SiBCN-Schichten Eine Vielzahl industrieller Prozesse nutzt elektrische Plasmen, und neue Anwendungen entwickeln sich rasch. In der Mikroelektronikindustrie sind die Anforderungen an eine höhere Ausbeute und immer kleiner werdende Bauteilgeometrien entscheidend für die Reproduzierbarkeit und das Verständnis der Prozesse. Ein detailliertes Verständnis der Reaktionskinetik von Plasma-Ionen und neutralen Spezies spielt eine Schlüsselrolle bei der Entwicklung fortschrittlicher Verfahren der Oberflächentechnik wie HIPIMS. Differenziell gepumpter Verteiler mit Montageflansch zur Prozesskammer Hochempfindlicher und stabiler Dreifach-Filterquadrupol, Massenbereich bis 510amu Impulsionenzählungsdetektor mit 7 Dekaden dynamischem Bereich Energieanalyse-Option durch Pol-Bias-Scanning 100eV Ionenextraktions-/Ausschlussoptik mit abstimmbarem integriertem Ionisator für Appearance Potential MS Penning-Manometer und Verriegelungen zum Schutz vor Überdruck Signaltorsteuerung und programmierbare Signaltorsteuerung für zeitaufgelöste Studien im gepulsten Plasma Analyse von Neutralen und Radikalen als Standard, +ve / -ve Ionenanalyse als Option Optionen für Mu-Metall- und Radio-Metall-Abschirmung, Optionen für Hochdruckbetrieb MASsoft-Steuerung über RS232, RS485 oder Ethernet LAN