Innovatives Flugzeit-Quadrupol-SIMS-System
Das TOF-qSIMS-System von Hiden ist für die Oberflächenanalyse und Tiefenprofilierung einer breiten Palette von Materialien wie Polymeren, Pharmazeutika, Supraleitern, Halbleitern, Legierungen, optischen und funktionellen Beschichtungen und Dielektrika konzipiert und ermöglicht die Messung von Spurenkomponenten im sub-ppm-Bereich.
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Der neue Hiden TOF (Time of Flight) Analysator erweitert SIMS und bietet dem Anwender die Vorteile des dynamischen Bereichs von Hochleistungs-Quadrupol-SIMS zusammen mit den Vorteilen der parallelen Datenerfassung und der Molekülfragmentanalyse von Time of Flight SIMS, TOF-SIMS.
Die TOF-qSIMS-Fähigkeit ermöglicht die hyperspektrale Bildgebung für die räumlich aufgelöste detaillierte Materialanalyse.
Das TOF-qSIMS-System bietet die umfassenden Möglichkeiten der statischen TOF-SIMS und des Quadrupol-SIMS für Tiefenprofile mit hohem Dynamikbereich.
Das vollständig integrierte und für Hochleistungs-SIMS-Analysen optimierte TOF-qSIMS-Workstation-System umfasst eine UHV-Kammer mit mehreren Anschlüssen, einen TOF-SIMS-Analysator, den MAXIM-Quadrupol-SIMS-Analysator von Hiden, eine IG20-Gas-Primärionenkanone, eine Cs-Metallionenkanone und einen Probenhalter, der für ein breites Probenspektrum geeignet ist. Der hochempfindliche SNMS-Modus ist für die quantitative Analyse von metallurgischen Dünnschichten, leitenden und nichtleitenden Oxiden und anderen Legierungsmaterialien und Beschichtungen vorgesehen. Einrichtungen zur SIMS-Verbesserung, einschließlich Sauerstoffflutung, Elektronenladungsneutralisierung und Ausheizen im Vakuum, gehören zur Standardausstattung.
Die optionale PC-Software SIMS Mapper ermöglicht die Kartierung mit 2D- und 3D-Ansicht des Probenbereichs.
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