Spitzentechnologie für Wafer-Anwendungen.
Spezialgerät für automatisierte Messungen dünner Schichten und Mehrfach-Schichtsysteme auf Wafern mit Durchmessern von 6 - 12 Zoll.
Erfüllt alle Anforderungen an die exakte Wafer-Kontrolle
Durch den programmierbaren Messtisch mit Vakuum-Wafer-Chuck sowie Mikrofokus-Röhre Ultra ist das FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER optimal zugeschnitten auf die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie. Die in das XRF-Gerät eingebaute Polykapillaroptik bündelt die Röntgenstrahlung auf kleinste Messflecke von 10 oder 20 µm für kurze Messzeiten bei hoher Intensität. So können Sie einzelne Mikrostrukturen wesentlich genauer analysieren als mit herkömmlichen Geräten – und das vollständig automatisiert.
Vollständig integrierte Lösung.
XDV®-μ SEMI kombiniert mit Waferhandler Ihrer Wahl
Genau und exakt.
Positionierung des Messpunkts auf kleinen Strukturen dank automatischer Bilderkennung
Allen Herausforderungen gewachsen.
Sichere und schnelle Ergebnisse für ambitionierte Messaufgaben
Vollständig automatisierbar.
Lassen Sie Ihr Gerät mit nur einem Klick für sich arbeiten
Fortschrittlichste Polykapillaroptik auf dem Markt.
Unsere inhouse gefertigten Polykapillaroptiken liefern herausragende Messergebnisse bei kurzen Messzeiten
Digitaler Pulsprozessor DPP+.
Noch kürzere Messzeiten mit derselben Standardabweichung*